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PBT-650 晶元二流體清洗機

  • 所屬分類:半導體清洗設備

  • 點擊次數:
  • 發布日期:2019-08-05
  • 在線詢價
  • 產品詳情

PBT-650     晶元二流體清洗機

 

 應用領域:

主要用於高端晶元灰塵的清洗,如下圖:

 

 

 設備特點:

  • 可更換清洗吸盤,可使用4-12英寸的清洗吸盤;
  • 操作程序可按作業需求編寫調整,設備運行流程、清洗時間及各項參數可自行編製;
  • 設備運行狀態及參數在線實時監控,自動門配有安全光柵,保證操作安全;
  • 采用真空吸附式清洗盤,晶元夾具的取放更安全、方便;
  • 擺臂式清洗,清洗範圍可編製,適用範圍廣、無清洗盲區、無二次汙染,清洗效果更佳;
  • 設備清洗室全密封,且配有自動擋水圈,有效防止二次汙染;
  • 高速離心設計,轉速可調節100-2000R/Min;
  • 配備獨特的靜電消除裝置,輔助清洗達到最佳效果,可選擇使用氮氣;
  • 設備配有大麵積透明觀察窗;
  • 縮減寬度的省空間設計,結構緊湊,占用空間小;
  • 整機鏡麵不鏽鋼機身,能耐酸堿,對工作環境無汙染,鏡麵機殼易於保養。

 

 清洗工藝:

 放入物料  ---- 一鍵清洗開始,安全門自動關閉  ----  二流體清洗 --- 離心脫水(去靜電離子風與加熱腔體輔助幹燥) --- 清洗完畢 --- 報警提示  --- 玻璃門自動打開。

采用高速離心設計,主要使用於4-12英寸的矽晶圓片的精密清洗;搭配二流體清洗、靜電消除/氮氣、高速離心等裝置,使被清洗件達到幹燥、潔淨的目的。

 

技術參數:

設備外觀尺寸

700mm(L)×650mm(W)×1100mm(H)

清洗盤規格

4-12英寸(可選)

清洗盤尺寸

定製

純水入口徑

外徑Ø8mm純水軟管

排水出口徑

3/4″軟管

氣源入口徑

Ø12mm PU氣管

排風口口徑

2.5″皮管接頭(75mm外徑)

電源供應

AC220V; 50HZ ;5A

總功率

1.5KW

耗電量

清洗時: 1.5kw/h

待機時: 0.5kw/h

氣源供應

0.45-0.7Mpa

DI水供應

>0.35Mpa

清洗壓力

3.8-8Kgf/cm²

離心轉速

100-2000R/Min

傳動馬力

1HP

純水消耗量

0-1000ML/Min

氣體消耗量

200-500L/Min

空氣過濾方式

一級0.01μm除油過濾器;二級0.01μm精密過濾器

環境過濾方式

0.3μm;99.99%

機器淨重

約200KG